اکسایش حرارتی
From Wikipedia, the free encyclopedia
در ریزساختات، اکسایش حرارتی راهی برای تولید یک لایه نازک اکسید (معمولاً سیلیسیم دیاکسید) بر روی سطح ویفر است. این روش یک ماده اکسیدکننده را مجبور میکند تا در دمای بالا به ویفر نفوذ کرده و با آن واکنش نشاندهد. میزان رشد اکسید اغلب توسط مدل دیل-گروو پیشبینی میشود.[1] اکسایش حرارتی ممکن است به مواد مختلف اعمال شود، اما بیشتر آنها شامل اکسایش زیرلایههای سیلیسیم برای تولید سیلیسیم دیاکسید است.