مدل دیل-گروو
مدل ریاضی اکسایش نیمرسانا / From Wikipedia, the free encyclopedia
مدل دیل-گروو از نظر ریاضی رشد یک لایه اکسید در سطح یک ماده را توصیف میکند. به طور خاص، از آن برای پیش بینی و تفسیر اکسایش حرارتی سیلیکون در ساخت ادوات نیمرسانا استفاده میشود.[1] این مدل برای اولین بار در سال ۱۹۶۵ توسط بروس دیل و اندرو گروو از فرچایلد سمیکانداکتر منتشر شد، [2] کار بروی غیرفعالسازی سطح سیلیکون محمد عطاالله با استفاده از اکسایش حرارتی در آزمایشگاههای بل در اواخر دهه ۵۰ ساخته شد.[3] این به عنوان گامی در توسعه ادوات سیماس و ساخت مدارهای مجتمع بکار رفته است .